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第274章 EUV光刻机三大件（第3页）

首先是光源。

根据罗辉的记忆，国产光源短时间内可以突破到190纳米左右的激光光源，却迟迟无法突破10-14纳米左右的极紫外光光源。

不过，问题不大。

研发国产光源的最难点早就被解决了，剩下的只是筛选激光技术而已。

这方面也有技术储备。

只要肯砸钱，三五年内绝对有突破。

其次是双工件操作台。

这玩意儿才是EUV光刻机研发过程中最难征服的一座珠穆朗玛峰。

技术难度在于，移动过程中的晶圆平台速度可以达到吓人的100公里每小时。

相当于全速疾驰的跑车。

但，要这辆跑车停下来的时间只有0.4秒，距离斑马线的误差不能超过0.06纳米。

现实环境中，这样一辆车无法制造。

谁有这么牛逼的刹车？

可是，双工件台的技术要求就这么苛刻，只能让科研人员脑洞大开的想办法。

技术突破有可能是一瞬间的事，也有可能是一辈子都无法完成的事。

看运气的几率非常大。

也是需要砸钱最多的项目。

最后一部分是物镜部件的研发。

这玩意儿得分成两部分看待。

一部分是镜片的平滑度。

要求很吓人。

如果把EUV光刻机镜片放大到地球大小，那么就得要求这枚镜片上的突起不超过八十米。

放眼全球，只有蔡司公司的生产工艺可以达到要求。

国产部件想要突破，就得不惜工本地反复试验。

工艺部分考验的是配方和技术，没有捷径可走。

不对！

有捷径！

可以建造太空工厂用来生产制造EUV光刻机的镜片。

无重力环境可以制造出比蔡司公司打磨得更平滑的镜片。

镜片生产工艺的另一部分内容则是表面涂层。

这些涂层要求可以吸收长度超过14纳米的光波，却要反射10-14纳米区间的光波。

还是个反复砸钱搞实验的项目。

钱砸的越多，突破得越快。