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第一千零一十七章 光刻样机（第3页）

威来自己解决双工作台、浸没系统，曝光系统，以及设计与整机集成。

国内其他单位参与了光刻胶，光刻气体，缺陷检测，涂胶显影等系统。

总计有几十家企业参与其中。

「这台机器可以量产芯片吗？」

「我们用这台机器进行了小规模的流片，量产还不行，良品率有点低。」

「通知军方那些单位没有？」

「通知了，他们用不了多久就会到了。」

不管怎么说，这台机器上造出来了。

就算良品率低，那也是自己家的孩子。

慢慢总会好起来的，总比没有强。

「咱们要不要公布出去？」

「这个要征询一下军方的意见，以他们的意见为重。」

军方的人来的很快，一同前来的还有国家一些神秘单位的人。

多达几十人。

国家是从九零年开始重视微电子产业。

为此还出台了一个908工程，拨款二十亿元。

可惜这个工程源于方方面面的原因，从立项到投产，历时了七年之久。

摩尔定律为十八个月，七年时间等于4.6个摩尔定律的周期。

意味着这条引进的生产线投产就落后五个摩尔定律周期，所以巨额投资打了水漂。

908工程的失败，国家并没有气馁，汲取了经验之后又开始了909工程。

97年开工，99年完工，2000年投产的华鸿就这样开始了。

头一年还不错，华鸿盈利了两亿米元，但是第二年就亏损了一亿米元。

合资的岛国NEC也跑路了，剩下华鸿自己半死不活。

这两个工程无疑是失败的。

现在威来整出了可以量产到几十纳米芯片的光刻机，这对国家微电子行业无疑是一个巨大的鼓舞。

因此来这么多人也就不奇怪了。

这些人在威来电子停留了三天，详细地摸清了这台样机的各种性能。

虽然现在这台机器的良品率还不达标，但对华国来说，这是一个非常振奋人心的消息。

军方决心光刻机技术不对外公布，待研磨好了再做处理。